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<図書>
EUV sources for lithography / Vivek Bakshi

データ種別 図書
出版者 Bellingham, Wash. : SPIE Press
分 類 LCC:QC459
DC22:621.36/4
出版年 2005
大きさ xxxv, 1057 p. : ill. ; 26 cm

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3F
425B||Bak 50017136

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一般注記 Includes bibliographical references and index
著者標目 Bakshi, Vivek
件 名 LCSH:Ultraviolet radiation -- Industrial applications  全ての件名で検索
LCSH:Plasma (Ionized gases)
LCSH:Lithography
書誌ID 1000076768
NCID BA76429737

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