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<図書>
Applications of plasma processes to VLSI technology / edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-gun Kim

データ種別 図書
出版者 New York : Wiley
分 類 LCC:TK7871.85
DC19:621.381/73
出版年 c1985
大きさ xiv, 394 p. : ill. ; 24 cm

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3F
426E||Sug 10028694

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別書名 原タイトル:Handōtai purazuma purosesu gijutsu
著者標目 菅野, 卓雄(1931-) <スガノ, タクオ>
件 名 LCSH:Semiconductors -- Etching  全ての件名で検索
LCSH:Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction  全ての件名で検索
LCSH:Plasma etching
LCSH:Vapor-plating
書誌ID 1000011234
NCID BA0724373X

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