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＜図書＞
EUV sources for lithography / Vivek Bakshi
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版情報 | Bellingham, Wash. : SPIE Press , 2005 |
| 分 類 | LCC:QC459 DC22:621.36/4 |
| 大きさ | xxxv, 1057 p. : ill. ; 26 cm |
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| 一般注記 | Includes bibliographical references and index |
|---|---|
| 著者標目 | Bakshi, Vivek |
| 件 名 | LCSH:Ultraviolet radiation -- Industrial applications
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LCSH:Plasma (Ionized gases) LCSH:Lithography |
| 書誌ID | 1000076768 |
| NCID | BA76429737 |