ようこそ
ゲスト
さん
ログイン
ヘルプ
入力補助
English
TOP
図書館サービス
図書新着案内
雑誌最新巻号案内
雑誌タイトルリスト
ベストリーディング
アクセスランキング
利用者サービス
貸出・予約状況照会
文献複写・貸借申込み
文献複写・貸借申込み状況照会
図書購入リクエスト
図書購入リクエスト状況照会
パスワード変更
メールアドレス変更・登録
その他
図書室HP
NIFS HP
前へ
[
16
/
32
]
次へ
検索結果一覧に戻る
CLOSE
この情報を出力する
印刷
メール送信
ファイル出力
RefWorks出力
EndNote Basic出力
Mendeley出力
このページのリンク
コピー
他の検索サイト
Webcat Plus
CiNii Books
国立国会図書館サーチ
Google
Google Books
Google Scholar
CLOSE
»
<図書>
ハクマク サクセイ ノ キソ
薄膜作成の基礎 / 麻蒔立男著
データ種別
図書
出版者
東京 : 日刊工業新聞社
分 類
NDC8:
549.8
NDLC:
ND371
出版年
1996.3
大きさ
7, 357, 4p ; 21cm
所蔵情報を非表示
配架場所
巻 次
請求記号
資料番号
状 態
コメント
予約
3F
510A||Asa
40026122
目次PDF
書誌詳細を非表示
一般注記
各章末: 参考文献
著者標目
麻蒔, 立男(1934-)
<アサマキ, タツオ>
件 名
BSH:
薄膜
BSH:
真空技術
NDLSH:
薄膜
書誌ID
1000069696
NCID
BN14295768
類似資料
1
薄膜の基本技術 / 金原粲著
2
低温プラズマ応用技術
3
薄膜作製応用ハンドブック / 小川正毅, 多賀康訓編集委員 ; 八瀬清志編集協力委員
4
超LSI時代の半導体技術100集 / 庄野克房著
1 - 5
5
固体撮像デバイスの基礎 / 塚本哲男著
6
半導体 : 先端技術を支える / 杉上孝二編
7
パワーエレクトロニクス入門 / 大野栄一編著
8
新しい半導体素子 / 酒井善雄編
9
半導体デバイス / 古川静二郎執筆
10
スパタリング現象 : 基礎と薄膜・コーティング技術への応用 / 金原粲著