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＜図書＞
Applications of plasma processes to VLSI technology / edited by Takuo Sugano ; translated by Hyo-gun Kim
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | New York : Wiley |
| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC19:621.381/73 |
| 出版年 | c1985 |
| 大きさ | xiv, 394 p. : ill. ; 24 cm |
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| 別書名 | 原タイトル:Handōtai purazuma purosesu gijutsu |
|---|---|
| 一般注記 | Translation of: Handōtai purazuma purosesu gijutsu "A Wiley-Interscience publication." Bibliography: p. 369-389 Includes index |
| 著者標目 | 菅野, 卓雄(1931-) <スガノ, タクオ> |
| 件 名 | LCSH:Semiconductors -- Etching
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LCSH:Integrated circuits -- Very large scale integration -- Design and construction 全ての件名で検索 LCSH:Plasma etching LCSH:Vapor-plating |
| 書誌ID | 1000011234 |
| NCID | BA0724373X |