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＜図書＞
Plasma etching in semiconductor fabrication / Russ A. Morgan
(Plasma technology ; 1)
| データ種別 | 図書 |
|---|---|
| 出版者 | Amsterdam ; Tokyo : Elsevier |
| 分 類 | LCC:TK7871.85 DC19:621.3815/2 |
| 出版年 | c1985 |
| 大きさ | 318 p : ill. ; 25 cm |
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| 配架場所 | 巻 次 | 請求記号 | 資料番号 | 状 態 | コメント | 予約 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 3F |
|
426E||Pla||1 | 10045979 |
|
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| 一般注記 | Includes bibliographical references and index |
|---|---|
| 著者標目 | *Morgan, Russ A., 1950- |
| 件 名 | LCSH:Semiconductors -- Etching
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LCSH:Plasma etching |
| 書誌ID | 1000010291 |
| NCID | BA00003964 |