＜特集記事＞
SPECIAL ISUE ON ADVAVCES ON PLASMA PROCESSING FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
| 巻 号 | 37(9)<1> |
|---|---|
| 刊行年 | 2009 |
＜雑誌＞
IEEE transactions on plasma science / Institute of Electrical and Electronics Engineers
| データ種別 | 雑誌 |
|---|---|
| 出版年 | 1973- |
| 出版者 | New York : [Institute of Electrical and Electronics Engineers] |
| 別書名 | 略タイトル:IEEE trans. plasma sci キータイトル:IEEE transactions on plasma science |
| URL |
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| 別書名 | 略タイトル:IEEE trans. plasma sci キータイトル:IEEE transactions on plasma science |
|---|---|
| 一般注記 | Frequency varies: quarterly, -v. 12, no. 4 (1984); bimonthly, Vol. 13, no. 1 (Feb. 1985)-v. 36, no. 6; monthly, Vol. 37, no. 1 (Jan. 2009)- |
| 著者標目 | Institute of Electrical and Electronics Engineers |
| 件 名 | LCSH:Plasma engineering -- Periodicals
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| 書誌ID | 2000000466 |
| ISSN | 00933813 |
| NCID | AA0066803X |
| URL |